11月11日～14日，國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(ISO/TC172)及其分委會(huì)(SC1、SC3、SC9)年會(huì)及工作組會(huì)在中國(guó)杭州計(jì)量大學(xué)順利召開。來自德國(guó)、美國(guó)、澳大利亞、法國(guó)、日本等國(guó)家共計(jì)91名專家參加了本次會(huì)議。 本次國(guó)際會(huì)議歷時(shí)4天，屬于ISO /TC172近年來規(guī)模較大的一次會(huì)議，會(huì)議的順利召開不僅得益于集團(tuán)公司和國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局標(biāo)準(zhǔn)創(chuàng)新管理司的支持，還有中國(guó)計(jì)量大學(xué)和杭州標(biāo)準(zhǔn)化國(guó)際交流中心對(duì)大會(huì)的多方協(xié)助，使得會(huì)議從前期籌辦、到外賓邀請(qǐng)函發(fā)放以及會(huì)議期間的安排，都得到了各方代表的肯定，ISO/TC172德國(guó)秘書處在會(huì)后特發(fā)郵件對(duì)此次會(huì)議的成功舉辦表示感謝。(標(biāo)準(zhǔn)所) |
